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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

沸石转轮加催化燃烧装置 吸附脱附催化燃烧设计原理*、用材独特,性能稳定,结构简便,可靠,节能省力,无二次污染。设备占地面积小,重量轻。吸附床采用抽屉式结构,装填方便,便于更换, 自动控制系统的信号检测器设置于出气口处,对出气口的废气浓度进行自动检测,并将浓度数据传输给PLC控制器,PLC控制器根据传输数据发出控制指令,控制进气口上的进气阀门和催化燃烧进气阀门的自动开启、闭合,通过对活性炭吸附层的实时脱附实现活性炭吸附层的连续净化。为保证生产的连续运行,设有两套吸附脱附装置交替使用。 针对催化燃烧废气特点,首*行分类收集,先用设备对工艺产生的烟气进行处理,在多功能塔内对废气进行喷淋吸收,废气除味剂、吸收液、化工废气除臭剂与其进行充分反应,对VOCs气体进行一定的分解处理,在末端尾气处理器上,用有机废气催化剂进行光解催化氧化反应,对化工臭气进行催化裂解处理,对苯类尾气进行冷凝回收,整个除臭装置工艺设计合理,废气治理设施运行记录标明,净化效率一直保持在99%以上。对环境的污染治理有很大的帮助!


OC废气处理设备从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。



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